原子层沉积(Atomic Layer Deposition: ALD)是目前国外近几年发展起来的一种广泛用于超薄绝缘层沉积和纳米镀层的一种新型沉积技术，在每个沉积过程中，可以控制在一个分子层的沉积。等离子体在ALD中的应用可以提高分子层沉积的效率，是目前ALD沉积技术中研究热点之一。迈纳德-东华大学理学院联合实验室主要依托东华大学理学院在等离子体和无锡迈纳德微纳技术有限公司在原子层沉积设备上各自技术优势基础上，开展脉冲等离子体增强型原子层沉积以及相关领域技术的开发。
无锡迈纳德微纳技术有限公司是集研发、生产、销售为一体的新型高科技微纳技术企业。公司成立于2009年7月，主要提供纳米涂层产品（如AL2O3、TiO2等），镀膜设备的制造及相关定制产品，应用于微纳米技术、半导体、太阳能电池、有机发光器件、微纳传感器等领域。2009年获得无锡市政府“530”项目和空港产业园的合力资助，立志于中国微纳技术的产业化。由一支优秀的创业团队组成，包括留学德国、英国、香港的归国博士及拥有丰富管理、销售经验的专业人士。技术支持包括来自德国Max-Planck固态研究所，德国Leibniz固态与材料研究所，国内知名大学材料科学系、电子系及物理系的相关教授。
